معدات الطلاء البصري للأفلام العازلة Ar N2 O2 PVD ترسب الاخرق المغنطروني
التطبيقات
| التطبيقات | الغرض المحدد | نوع المادة |
| أشباه الموصلات | IC ، LSI القطب ، فيلم الأسلاك | منظمة العفو الدولية ، السى ، السى-النحاس ، النحاس ، الاتحاد الافريقى ، Pt ، Pd ، Ag |
| قطب ذاكرة VLSI | مو ، دبليو ، تي | |
| فيلم حاجز الانتشار | MoSix ، Wsix ، TaSixو، TiSx ، W ، Mo ، W-Ti | |
| فيلم لاصق | PZT (Pb-ZrO2-Ti) ، Ti ، W | |
| عرض | فيلم موصل شفاف | ITO (In2O؛ -SnO2) |
| فيلم الأسلاك الكهربائية | Mo ، W ، Cr ، Ta ، Ti ، Al ، AlTi ، AITa | |
| فيلم كهربي |
ZnS-Mn و ZnS-Tb و CaS-Eu و Y2ا3، تا2ا5و BaTiO3 |
|
| التسجيل المغناطيسي | فيلم تسجيل مغناطيسي عمودي | CoCr |
| فيلم للقرص الصلب | CoCrTa ، CoCrPt ، CoCrTaPt | |
| رأس مغناطيسي رقيق | CoTaZr ، CoCrZr | |
| فيلم الكريستال الاصطناعي | CoPt و CoPd | |
| التسجيل البصري | فيلم تسجيل قرص تغيير المرحلة | TeSe ، SbSe ، TeGeSb ، إلخ |
| فيلم تسجيل القرص المغناطيسي |
TbFeCo ، DyFeCo ، TbGdFeCo ، TbDyFeCo |
|
| فيلم عاكس للقرص البصري | منظمة العفو الدولية ، AITi ، AlCr ، Au ، سبيكة Au | |
| فيلم حماية القرص البصري | سي3ن4، SiO2+ ZnS | |
| بطارية طبقة رقيقة من البيروفسكايت | طبقة موصلة شفافة | ZnO: آل |
| العلاج الطبي | مواد متوافقة حيوياً | ال2ا3، TiO2 |
| طلاء زخرفي | فيلم ملون ، فيلم معدني | ال2ا3، TiO2، وجميع أنواع الأفلام المعدنية |
| طلاء مضاد للتلون | طلاء المعادن الثمينة المضادة للأكسدة | ال2ا3، TiO2 |
| أفلام بصرية | معامل انكسار عالي-منخفض | SiO2، TiO2، تا2ا5، ZrO₂ ، HfO2 |
| تطبيقات أخرى | فيلم خفيف | Cr ، AlSi ، AlTi ، إلخ |
| فيلم مقاوم | NiCrSi ، CrSi ، MoTa ، إلخ | |
| فيلم فائق التوصيل | YbaCuO ، BiSrCaCuo | |
| فيلم مغناطيسي | Fe ، Co ، Ni ، FeMn ، FeNi ، إلخ |
سمات
| نموذج | MSC700-750-700 |
| نوع الطلاء | أفلام عازلة مختلفة مثل الفيلم المعدني وأكسيد المعدن و AIN |
| نطاق درجة حرارة الطلاء | درجة حرارة طبيعية تصل إلى 500 درجة مئوية (قابلة للتخصيص) |
| طلاء حجم غرفة فراغ | 700 مم * 750 مم * 700 مم (قابل للتخصيص) |
| فراغ في الخلفية | <5 × 10-7mbar |
| سمك التغليف | ≥10 نانومتر |
| دقة التحكم في السماكة | ≤ ± 3٪ |
| الحد الأقصى لحجم الطلاء | ≥100mm (قابل للتخصيص) |
| توحيد سمك الفيلم | ≤ ± 0.5٪ |
| حاملة الركيزة | مع آلية دوران الكواكب |
| المواد المستهدفة | 4 × 4 بوصات (متوافق مع 4 بوصات وأقل) |
| مزود الطاقة | تعتبر مصادر الطاقة مثل التيار المستمر والنبض والتردد اللاسلكي والانحياز اختيارية |
| غاز المعالجة | أر ، ن2يا2 |
| ملاحظة: الإنتاج حسب الطلب متاح. | |
عينة طلاء
خطوات عملية
→ ضع الركيزة للطلاء في غرفة التفريغ ؛
→ مكنسة كهربائية تقريبًا ؛
← قم بتشغيل المضخة الجزيئية ، قم بتفريغ الهواء بأقصى سرعة ، ثم قم بتشغيل الثورة والدوران ؛
← تسخين غرفة التفريغ حتى تصل درجة الحرارة إلى الهدف ؛
→ تنفيذ التحكم في درجة الحرارة الثابتة ؛
→ عناصر نظيفة
→ تدور والعودة إلى الأصل ؛
→ طلاء الفيلم وفقا لمتطلبات العملية ؛
← انخفاض درجة الحرارة وإيقاف تجميع المضخة بعد الطلاء ؛
← توقف عن العمل عند انتهاء العملية التلقائية.
مبدأ العمل
رش المغنطرون هو نوع من ترسيب البخار الفيزيائي (PVD).يجعل الإلكترونات تتحرك في دوامة
مساراتبالقرب من سطح الهدف عن طريق التفاعل بين المجالات المغناطيسية والكهربائية ، وبالتالي زيادة
احتمالية منالإلكتروناتضرب غاز الأرجون لتوليد الأيونات.ثم تصطدم الأيونات المتولدة بالسطح المستهدف
تحت تأثيرالمجال الكهربائي ورش المواد المستهدفة لترسيب طبقة رقيقة على سطح الركيزة.
الاخرق العاميمكن استخدام الطريقةلتحضير مختلف المعادن وأشباه الموصلات والمغناطيسية
المواد وكذلك أكاسيد معزولة والسيراميك ومواد أخرى.الجهاز يستخدم PLC + touch
لوحةنظام التحكم HMI ،التي يمكن أن تدخل المعلمات عن طريقواجهة عملية قابلة للبرمجة ، مع الوظائف
هذهكهدف واحد الاخرق ،الاخرق المتسلسل متعدد الأهدافوالاخرق المشترك.
إيجابياتنا
نحن مصنع.
عملية ناضجة.
الرد خلال 24 ساعة عمل.
شهادة الأيزو الخاصة بنا
أجزاء من براءات الاختراع لدينا
أجزاء من جوائزنا ومؤهلاتنا للبحث والتطوير
تُباع منتجاتنا في جميع أنحاء العالم ، ويمكنك أن تطمئن إلى العملية الكاملة لمنتجاتنا.
